二手 GILITEK IBS #9222700 待售

GILITEK IBS是由GILITEK Technologies開發的高性能濺射系統。這種革命性的系統采用直流電（DC）反應離子束濺射，是濺射技術的突破。與傳統的濺射源如磁控管濺射相比，它具有較高的均勻性、較長的壽命、較低的工作功率和較高的沈積速率。直流反應性離子束濺射也提供了優越的表面粗糙度，這是需要光滑端產品的薄膜沈積應用的重要考慮因素。IBS可以輕松集成到現有自動化系統中,以實現高吞吐量生產。該系統具有高達1.6um/minute的薄膜沈積能力，是周轉時間快的大型項目的首選。GILITEK IBS允許精確控制等離子體功率和沈積速率，允許均勻性和質量塗層的最佳條件。而且，它的密封腔室可以加熱到400°C，非常適合苛刻的材料。IBS的效率也很高，耗電量為400 W，可用於一系列薄膜濺射應用。它也是靈活制造的理想選擇,使其能夠快速設置並以最小的停機時間開始運行。幾種來源可與GILITEK IBS配合使用，包括鋁、銅、鉬等多種，允許自訂薄膜沈積溶液。此外，還使用全金屬密封確保密封室保持防漏，這對於IBS的長期可靠性至關重要。GILITEK IBS是需要高端濺射解決方案的客戶的絕佳選擇,它具有通用的性能和卓越的效果。其詳盡的功能集使其成為制造用於研究、醫學和工程應用的高級元件的寶貴應用工具。IBS是一種完美的工具，能夠及時、經濟高效地提供高質量、均勻的薄膜塗層。