二手 GILITEK IBSV-1030-V2 #9070264 待售

GILITEK IBSV-1030-V2濺射設備是用於高級材料研究的物理、化學和熱過程的多合一來源。IBSV-1030-V2配有兩個電源，一個沈澱源、真空、冷凍泵和四個獨立的濺射和蒸發源。該系統能夠生產厚度高達5,000埃、保形覆蓋率高達80%的薄膜。GILITEK IBSV-1030-V2采用標準的高真空室,額定功率為1 x 10 Torr,並配備了強大的擴散泵,能夠達到1 x 10-7 Torr的工作底壓。一個獨立的視圖端口、四向操縱器和自動平衡單元允許在腔室內進行精確的控制和定位。通過四個獨立的源啟用物理濺射沈積。這些源被配置為支持金屬和氧化物的平面和保形沈積。該機器能夠生產厚度從幾埃到幾微米的薄膜，這些薄膜在各種底物上具有優越的附著力，包括矽酸鹽玻璃和聚合物。通過引入新的蒸氣源增強了化學氣相沈積（CVD）能力。這種氣源能夠沈積金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）膜，如GaN或MoS2，以及其他材料如聚合物和碳納米管。它還支持各種其他材料的升華和化學輔助沈積，具有可調的通量和溫度控制。通過具有可調功率和溫度的外部加熱元件,可以實現熱功能。這允許各種過程，如退火和快速熱處理。總體而言，IBSV-1030-V2適用於各種研究應用，包括薄膜沈積、CVD沈積和材料熱處理。該工具能夠生產具有最佳附著力和保形覆蓋率的高質量薄膜。先進的硬件,加上先進的軟件,在復雜的流程方面提供了卓越的控制和靈活性。GILITEK IBSV-1030-V2能夠支持各種各樣的應用程序,是研究機構和行業的理想資產。