二手 GILITEK IBSV-1030 #9222698 待售
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ID: 9222698
優質的: 2014
Ion Beam Sputtering (IBS) systems
Substrate size: Diameter, 12"
CTI 400 Cryopump
PPG 16 cm RF ion source
RF Ion source: 12 cm
(4) Targets: 14" x 10"
Ion source distance: Adjustable (±25mm)
In-situ optical monitoring system
OSAKA Dry pump
FERROTEC HSF
(8) Shadow masks
BROOKS Vacuum gauges
VAT Gate valve
Full automatic program controlled
(2) Lamp heaters
2014 vintage.
GILITEK IBSV-1030是一種創新的濺射設備,專為各種應用而設計。它旨在以高效率和高精度工作,使其成為許多行業的理想解決方案。該系統帶有一個傳動磁控管濺射目標，能夠濺射從氧化物到特殊合金的各種材料。濺射目標面積為10 x 30英寸,是大型濺射應用的絕佳選擇。其低功率要求使得它可以用於多種設置，包括高沈積速率和批量生產。IBSV-1030還配有夾緊裝置，操作方便、安全。它配有可調電源和可調濺射電流，使濺射過程得到更好的控制和調整。背面冷卻允許它在各種環境和基板中使用。GILITEK IBSV-1030是一款多功能機器,提供先進的功能,包括真空級別的0.3Torr至10Torr、可調的薄膜厚度可達33微米,以及可調的濺射速率可達24mm/min。它還具有可調的沈積溫度和可調的工作高度.此外,IBSV-1030還具有全自動功能,可用於無人值守操作。GILITEK IBSV-1030旨在減少濺射過程中的顆粒汙染，從而更好地控制產品質量。它還具有較低的維護要求,可確保一致的性能和最小的停機時間。IBSV-1030是用於各種濺射應用的可靠、高效的工具。它設計用於易於操作的控制真空條件。這使得它成為各個行業尋找性能和效率都很高的強大濺射資產的理想選擇。
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