二手 GILITEK IBSV-1100-MC #9354749 待售

GILITEK IBSV-1100-MC是一種雙槍、中容量、直流二極管濺射設備，主要用於薄膜沈積和物理氣相沈積過程。該系統包括一個整體射頻（射頻）發生器、一個氣體混合物控制單元、一個自動抽水機以及安全高效的沈積作業所需的所有硬件。IBSV-1100-MC有一個體積為1.2立方米的大型加工室，可以沈積大面積的基質。該腔室設計有兩個2.8-kW（千瓦）直流二極管濺射槍，能夠處理高達450毫米（毫米）截斷錐體的目標。二極管濺射槍提供了高的濺射速率，產生了出色的薄膜均勻性，使得該工具非常適合大面積的應用，如平板顯示器和大面積的金屬圖案。GILITEK IBSV-1100-MC包括廣泛的安全和便利功能,包括氣流安全聯鎖、可變控制和目標壓力控制真空指示器。資產自動將濺射槍和樣品之間的間隙保持在恒定距離，以獲得一致的結果。IBSV-1100-MC還具有整體基本壓力測量模型和閉環壓力控制。GILITEK IBSV-1100-MC具有很高的沈積速率和良好的薄膜均勻性和附著力.該設備能夠將各種材料（包括金屬、矽酸鹽和氧化物）沈積到各種基材上，如玻璃和塑料。此外，該系統還可以容納多種源材料和反應性氣體混合物，使其適用於一系列工藝，如電氣和光學薄膜。總之，IBSV-1100-MC是一種先進、可靠的雙槍、中容量、直流二極管濺射裝置，是各種薄膜沈積和物理氣相沈積過程的理想選擇。其眾多的安全特性和卓越的沈積速率，加上其龐大的加工室和廣泛的可自定義的工藝，使其成為任何行業的絕佳選擇。