二手 HITACHI E-1010 #293597935 待售

製造商
HITACHI
模型
E-1010
ID: 293597935
Ion sputtering system.
HITACHI E-1010是一種先進的PVD濺射設備,它結合了卓越的技術和用戶友好的操作。HITACHI E1010包括一種大功率微波磁控管濺射槍,即使在困難的基板上也能生產出性能非凡的薄膜。濺射是一種物理氣相沈積過程,依賴於高能粒子如離子或原子對目標材料的轟擊。這種轟擊導致目標材料的原子噴射到基板上形成所需的薄膜。E-1010利用高頻、高功率脈沖磁控管濺射實現均勻和可重現的結果。該槍能夠使用多達四個獨立的動力系統進行單層和同時多層沈積。電源系統的可變範圍為0-100%,使用戶能夠在不同的值範圍內更改膠片屬性。這種靈活性允許薄膜具有一系列的特性,如低表面粗糙度,優越的附著力和光學反射率。E1010有一個兩級壓力控制系統,由一個帶有內部壓力室的外部真空室組成。該裝置的設計目的是盡量減少汙染和防止沈積過程中的除氣問題。該機配備了電子電流測量裝置,用於精確的沈積速率控制和成分監測。HITACHI E-1010可處理高達200 mm的樣本量,適合廣泛的應用。也可用於在玻璃、石英、矽和金屬等各種基板上沈積薄膜。HITACHI E1010包括一個遠程監測工具,用於監測沈積過程中的壓力、溫度和其他參數。該資產與Windows兼容,並具有用戶友好、直觀的圖形用戶界面。對智能模型進行了編程,以提供快速的命令識別和即時執行。E-1010具有直觀的流程配方編輯器,允許用戶自定義流程並將其保存以備將來使用。E1010是半導體、薄膜晶體管、數據存儲設備、太陽能電池和燃料電池等應用的絕佳選擇。HITACHI E-1010可用於沈積金屬、金屬氧化物和材料組合的薄膜。HITACHI E1010提供可重復、一致的結果,使其成為任何PVD要求的絕佳選擇。
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