二手 HITACHI E-1010 #293604647 待售

HITACHI E-1010是為金屬和金屬氧化物薄膜沈積而設計的濺射設備。廣泛應用於精密微電子學、光電子學、納米技術和材料科學等研究領域。該系統一般由濺射室和物理氣相沈積源兩個主要組成部分組成。濺射室為密封室，真空壓力小於8x10-5毫巴。它包含用於加工和物料轉移的腔室，一個旋轉的樣板，一個準直器，一個巨大的過濾器和一個固定的基座。樣品臺最多可容納五塊四英寸的基板，加熱至350 °C。準直器用於將濺射的離子對準放置在旋轉臺上的底物。安裝了一個巨大的過濾器來過濾在濺射過程中產生的不穩定氣體分子。HITACHI E1010的PVD電源由高壓25 A直流電源和一對帶有氣體閥的N2/O2氣體進給系統供電。PVD源可用於同時濺射多達五種不同的目標材料，產生從幾個eV到幾個keV的廣泛的濺射離子能量。它可以濺射鋁、鉻、鐵、金甚至矽基材料的薄膜。E-1010具有一個稱為「均勻通量分布」的獨特特征，可確保放置在旋轉臺上的所有底物都能得到均勻濺射的離子。而且，其具有較大腔室表面積和冷卻水循環的冷卻單元有助於在運行過程中保持穩定的溫度。該機還具有泄漏檢測、壓力調節、遙控、數據記錄等多種安全功能。總之，E1010是一種非常先進和可靠的濺射工具，具有優良的特性，非常適合研發活動。憑借其精確的離子濺射技術、均勻的通量分布、溫度調節和安全特性，為用戶輕松開展研究任務提供了世界級平臺。