二手 HITACHI E-102 #9078351 待售

HITACHI E-102是一種濺射設備，設計用於在各種基板上均勻、精密地沈積薄膜。該系統利用獨特的脈沖直流濺射過程，與傳統濺射系統相比，在覆蓋範圍、均勻性和均方根（RMS）粗糙度上實現了一個數量級的提高。E-102是建立在一個堅固的不銹鋼腔室，它支撐一個固定的鋁制目標和一個可調安裝的光學透明腔室壁。該安裝座提供精確的角度調整和中心線傾斜，有助於減少沈積不均勻由於電弧放電。脈沖直流濺射過程在目標處產生高能、廣域等離子體。與傳統的濺射技術相比，該工藝具有均勻的沈積速率、更好的目標照明和更高的目標利用率。它還最大限度地減少了電弧放電引起的沈積非均勻性，因為HITACHI E-102濺射的功率水平更高，能量更均勻，可以使電弧發生的趨勢最小化。除了精確的角度調整和中心線傾斜之外,E-102還提供了可重復的預設弧形配置,並且能夠以高達20 kW的高功率運行,具體取決於目標材料。這允許更高的沈積速率。HITACHI E-102還包括一個內置冷卻單元和電源,使其更易於設置和維護。E-102控制機器包括一個基於Web的界面,用於遠程控制和監視來自世界任何地方的進程和狀態。這樣可以方便地優化濺射工藝參數。HITACHI E-102還配備了一個專利淋浴頭目標支撐工具，它允許沈積不同厚度的薄膜而無需重新定位目標。這一資產意味著E-102可以將厚度在幾納米到幾微米範圍內的薄膜沈積，精度很高。HITACHI E-102也很可靠，由於堅固的不銹鋼腔室設計和模型中使用的高質量部件。真空室的密封罩設計用於保護工作表面和光學清除室壁，以幫助防止汙染。總體而言，E-102是專門為薄膜沈積設計的先進濺射設備。采用一種創新的脈沖直流濺射工藝，以最高的均勻性和最低的粗糙度沈積高質量和均勻的薄膜。預設的弧形配置、可調節的安裝和內置冷卻系統使過程的維護和優化更加容易。而淋浴頭目標支撐單元允許精確的薄膜沈積，而無需重新定位目標。總之，HITACHI E-102是一種多用途、可靠的濺射機，能夠以極高的精度和可重復性沈積高質量薄膜。