二手 HITACHI E-1030 #293638501 待售

HITACHI E-1030是一種濺射沈積設備，設計用於在多個行業的表面上制造高質量的薄膜和塗層。該系統由濺射槍組件、控制器、基板支架和工藝室組成。濺射槍組件由陽極、加工室內部陰極和真空泵組成。陽極由銅構成，內含一根燈絲，經電子轟擊加熱至1500 °C至2500 °C。陰極是由一種目標材料制成的，由電子從陽極轟擊到1000 °C至1 500 °C的溫度加熱。基板支架附著在工藝室上，負責在濺射沈積過程中將基板固定到位。控制器用於調整壓力、電壓和電流設置，以便調整沈積速率。工藝室是一種密封的環境，可以調整以產生部分或完全真空，以便於濺射過程。E-1030提供了多種設計功能以獲得最佳結果,包括高瞬時沈積速率、由於均勻的磁場而在整個基板上具有出色的均勻性,以及能夠處理金屬、氧化物和陶瓷等多種材料。該單元還設計為方便用戶和易於操作。它有一個簡單的控制面板和數字顯示屏，用於查看流程參數和根據需要更改設置。此外，它具有高能效和成本效益，是真空沈積工藝的一個有吸引力的選擇。除了其設計特點外，HITACHI E-1030還可以執行高功率脈沖磁控管濺射（HIPIMS）和脈沖輝光放電（PGD）等多種濺射技術。HIPIMS提供比其他濺射方法更高的沈積速率，同時在基板上保持高質量、均勻的塗層。PGD是低溫應用的理想選擇，可用於制造致密導電塗層。這兩種濺射方法，以及E-1030的所有其他沈積能力，使其成為在各種工業過程中實現預期結果的有力工具。總體而言，HITACHI E-1030是一種可靠、用戶友好的濺射機，適用於各行業的優質薄膜沈積工藝。憑借其先進的設計特點、高效的操作和多用途的濺射技術,此工具是以盡可能最經濟高效的方式實現預期結果的理想工具。