二手 HITACHI E-1030 #293671277 待售
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HITACHI E-1030是一種濺射設備，旨在使金屬、氧化物、氮化物和金剛石狀碳（DLC）等薄膜材料沈積到基板上，以便制造光學塗層、數據存儲介質和電子等薄膜設備。該系統由真空室、濺射槍、電子束槍、氮氣前體源、氣體入口單元和機械泵機組成。E-1030的真空室呈橢圓形，塗有鎳和鋁。它裝有一個四向視窗，用於觀察和清潔。腔室包含一個電極陣列和一個充氣袋來固定基板。基板可以通過電阻加熱加熱，溫度範圍從室溫到1000攝氏度。該工具的濺射槍的工作原理是用氙離子轟擊底物。這些離子轟擊底物，導致目標材料的原子被彈出。這一工藝被稱為濺射濺射，廣泛用於厚膜的沈積。該槍還提供了一種陽極電弧工藝，可用於提高薄膜沈積的均勻性。該資產的電子束槍旨在增強濺射過程。通過在基材上發送一束電子束，噴槍有助於提高薄膜的總沈積速率，同時將薄膜厚度不均勻降至最低。氮前體源被設計為向被沈積的膜中添加氮，以制造富含氮的氮化物膜。這種薄膜在電子工業中非常可取，因為它具有較高的介電強度和耐腐蝕性。HITACHI E-1030的氣體入口模型設計為允許將各種氣體物種引入腔室。該設備由兩個氣體入口和每個氣體的兩條獨立管線組成。這允許不同的氣體混合物被精確的混合，允許創造專門的薄膜。該單元的機械泵系統設計用於在整個沈積過程中保持腔室所需的真空水平。該機使用兩個旋轉葉片泵和一個背襯泵，以達到所需的真空水平。背襯泵用於維持壓力，而旋轉式葉片泵則用於疏散腔室並維持所需的真空水平。E-1030是一種可靠和高效的濺射工具，可以將高度均勻的薄膜材料沈積到基板上。它結合了濺射槍、電子束槍、氮氣前體源、氣體入口資產、機械泵模型，使其成為薄膜結構沈積的理想工具。
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