二手 HITACHI E-1030 #293769523 待售

HITACHI E-1030是一種先進的用於薄膜沈積和材料研究的濺射設備。該系統是一個多目標濺射沈積單元，允許用戶手動或機器人沈積來自多個目標的薄膜，用於薄膜研究、沈積或沈積過程。E-1030機器包括一個帶有電子束加熱陰極濺射源的高真空室、一個用於裝載基板支架的負載鎖、一個用於現場監測的觀察窗口以及四個目標濺射源。高真空室采用機械背襯泵、擴散泵和旋轉閥。目標濺射源具有水冷旋轉陽極和水冷濺射目標，以確保均勻沈積。機器人訪問的負載鎖提供基板加工和高真空室之間的訪問，並配有快門，防止空氣入侵。基板支架為高溫加工提供了一個加熱室，該加熱室可容納130 W的熱量，可達到800 °C的溫度。HITACHI E-1030有一個先進的機器人系統，它允許機器人輔助的底物裝卸，在與多加載器一起使用時實現高度自動化的處理。此外,該工具還利用圖形用戶界面（GUI）進行過程控制、數據記錄和統計分析。它還有一個實時視圖監視器，允許用戶實時查看和監視資產的各個組成部分。E-1030模型廣泛用於各種薄膜沈積過程，如層層蒸發、磁控管濺射沈積、化學氣相沈積（CVD）和原子層沈積（ALD）。HITACHI E-1030主要集中於濺射沈積過程，以沈積氧化物或氮化物等復雜材料。其先進的特點讓使用者能夠精確控制沈積速率、濺射沈積薄膜的均勻性以及基底層的形成。E-1030濺射設備能夠在玻璃、金屬和陶瓷等大量基材上沈積薄膜。總體而言，HITACHI E-1030濺射系統是薄膜研究和沈積的先進設備，為薄膜工藝提供了一種高效、經濟高效的方法。先進的機器人技術和圖形用戶界面使機器變得用戶友好，適合現代薄膜研究和沈積過程。