二手 HITACHI E-1030 #9151980 待售

HITACHI E-1030濺射設備是一種高性能、多功能的薄膜沈積系統。它利用現有的最佳濺射沈積技術，為研究和生產提供成本效益高的沈積解決方案。該裝置具有較高的角度沈積均勻性、極好的控制和可重復性、較低的操作成本以及優越的沈積速率控制，非常適合廣泛的沈積應用。E-1030使用三元交叉式機器，由兩個旋轉目標和一個電子束槍組成。該工具由850W直流磁控管供電，采用75毫米端部大廳磁鐵。磁鐵結構被設計成保持高密度等離子體在靠近目標表面，這提供了均勻濺射在廣闊的空間區域。控制資產提供對過程參數的精確控制，如壓力、氣流和等離子體功率。HITACHI E-1030的真空室由不銹鋼製成，具有高性能的離子計，以維持10-7 torr的底壓。該模型還具有頂部加載夾具和樣品掩模,可自動執行沈積過程並節省寶貴的時間。樣品掩模功能允許精確控制沈積厚度、形狀和尺寸。E-1030還配備了WIG加熱源和自下而上的冷卻器，使設備能夠在高達500 °C的溫度下沈積材料。這使得該系統非常適合軟膜和硬膜的沈積。該裝置還能夠以高達50微米的厚度沈積電介質和金屬薄膜，而不會使薄膜明顯退化。HITACHI E-1030在一個緊湊的封裝中提供精確、可靠性和靈活性。它是一種多用途的沈積機，適用於廣泛的應用，包括半導體、光學、傳感器、MEMS和能源相關領域。它是一個方便用戶使用的工具，易於設置和操作，使其成為研究和生產環境的絕佳選擇。