二手 HITACHI E-1030 #9254425 待售

HITACHI E-1030是一種高性能濺射設備，用於演化金屬、半導體或氧化物薄膜。濺射是一種用高能粒子撞擊薄膜在基板上沈積薄膜的過程。該系統采用離子束輔助工藝，提高沈積速率，提高薄膜均勻性。它能夠為顯示器、太陽能電池、MEMS和其他電子元件生成高度精確的薄膜。E-1030包括低阻抗射頻（RF）電源、光學監控單元和超高真空（UHV）室。射頻電源提供了強大的電流源，使整個過程能夠在高於通常可實現的真空中完成。這提高了沈積薄膜的結構和光學質量。光學監測機包括連接到每個基板級的攝像機，允許實時觀察沈積過程和精確控制濺射過程。HITACHI E-1030的UHV腔室使用快速冷藏的渦輪分子泵和油和SUS316L電極的組合，以盡量減少汙染。這樣可以確保在沈積過程中保持極其清潔的氣氛。該腔室設計為保持5.0 × 10-9 Torr的底壓，並能保持長達24小時的清潔真空。E-1030使用四個均勻載荷來分配濺射離子的沖擊力。這確保了從基材到基材的良好材料均勻性。載荷可容納直徑達140毫米的基板，並可容納厚度達3mm的基板。該工具具有四個獨立的目標，允許同時濺射四種不同的材料。HITACHI E-1030能夠執行自動配方以精確定義給定膠片的沈積條件。這樣可以實現可重復的沈積結果,並確保可靠的生產質量。它還具有一個自我監控資產，它將檢測模型錯誤並向操作員發送警報消息。總體而言，E-1030是一種高性能的濺射設備，可提供卓越的材料均勻性和可重復的沈積結果。它是金屬、半導體和氧化物薄膜的理想選擇，是創建顯示器、太陽能電池、MEMS和其他電子元件的理想選擇。