二手 ISI PS 2 #126408 待售

ISIPS2濺射設備是用於先進薄膜沈積的最先進的工具。利用真空蒸發和濺射的方法，將薄薄的材料層沈積在基板上。濺射過程需要惰性氣體（通常為Ar或Xe）與引起強烈電離的電流一起使用。這種電離導致高能粒子轟擊和隨後的目標材料侵蝕，然後沈積在基板上作為一個薄層。PS 2是一種完全可配置的濺射系統，可用於沈積多種薄膜材料。它專為單目標或雙目標配置而設計,後者提供了更大的流程通用性和更好的吞吐量。可以將不同的材料和目標組合成一個單一的目標構型，用於樣品特異性沈積。每個目標持有者能夠旋轉到180°，允許增加沈積角度的範圍。單元中可以容納多種基材，從小塊到200毫米晶圓不等。ISI PS 2能夠為樣品和基板產生保護性屏蔽屏蔽，從而減少汙染，增加沈積均勻性。濺射壓力可從0.5-6 mTorr調節,並由數字顯示器監控.加熱器元件可以在機器中使用，以允許更高的沈積速率和改善局部均勻性。PS 2還包括多種輔助技術，包括凹陷冷卻劑端口、測量沈積速率的石英晶體，以及預疏散工具。該單元還包括一個用於遠程操作的運行和監視資產,並提供了一個控制界面,帶有板載計算機控件,用於數據記錄和故障排除。總體而言,ISI PS 2是一種高效可靠的濺射模型,能夠以各種基材尺寸生產高質量的薄膜層。憑借其可調參數和先進的輔助技術，PS2在濺射技術行業中站穩了腳跟。