二手 KDF 903ix #9249504 待售

KDF 903ix是為各種半導體制造工藝中的沈積而設計的最先進的濺射設備。它是一個三目標、雙源、超高真空垂直下降濺射系統，使底物上極為均勻的薄膜能夠低溫沈積。該單元具有雙陰極,每個陰極具有三個獨立可設置和可查看的目標。可視目標還使用戶能夠快速識別哪些材料被濺射，哪些基材被對齊。雙源方法可以在基板上實現均勻的低溫沈積，而垂直下降的方法可以減少顆粒汙染。903ix具有低溫濺射加熱機，使用戶能夠在高達500 °C的溫度下濺射薄膜。它還有一個高平均功率的熄火工具，它為所有過程提供更快、更均勻的沈積。在沈積過程中，使用延長壽命的熔爐將顆粒保持在海灣中，並使用機器人的熔爐衛生設備，以保持薄膜清潔和無顆粒。該型號具有單一的適應性和可擴展的多區域電源,總功率高達1600瓦,可提供多種濺射選項。此外，該設備還具有補償基板和目標熱效應的能力。KDF 903ix還配備了集成的過程監控功能，包括厚度和電板電阻映射功能，用於原位過程監控。它能夠精確的位置控制和濺射頭對準，確保目標始終正確對準正在處理的基板。總體而言，903ix濺射系統是一種先進的裝置，能夠在任何基板上提供任何材料的均勻薄膜。它具有精確的工藝優化和控制能力，意味著用戶可以實現精確、可復制、均勻的薄膜。