二手 KOREA VACUUM TECH VTC PVD-1300 #9173159 待售

KOREA VACUUM TECH VTC PVD-1300是一種用於薄膜塗層和高級研究應用的濺射沈積設備。該系統利用高功率的二極管式濺射源沈積薄膜，將產生具有非凡均勻性和高沈積速率的塗層。設備的Source to Wafer Distance （SWD）是可調的,允許目標到基板距離的各種配置,以獲得最佳的薄膜沈積條件。該PVD-1300在電子源上還有一個低能電子轟炸機（LEBS），使其能夠傳遞具有精確控制能級的高功率電子束。該工具幾乎適用於任何氣體，並提供控制資產內氣體壓力的能力。該PVD-1300除了具有濺射沈積能力外，還配備了先進的溫度控制系統。其加熱和冷卻源可調10至300 °C，可保持基板溫度穩定均勻。消費者還可以利用PVD-1300的自動壓力控制模型在腔室內保持恒定的運行壓力。KOREA VACUUM TECH PVD-1300具有直觀的控制設備,可訪問濺射過程的設置和參數。它能夠儲存多達10個預設的操作條件，協助科學家快速建立系統供即時使用。該PVD-1300還提供了一些監測系統，例如自動關機功能，以確保操作過程中的安全並防止損壞設備或部件。該PVD-1300是一個強大和可靠的濺射機設計，允許薄膜的沈積以最高的精度。其可調的SWD和溫度控制系統提供了最佳的薄膜沈積條件，而其自動壓力控制工具則提供了保持恒定運行壓力的便利。該PVD-1300還有預設的操作條件和安全監控系統，以確保安全運行。KOREA VACUUM TECH PVD-1300具有強大的特性和精確的控制能力，是薄膜塗層和先進研究應用的絕佳選擇。