二手 KURT J. LESKER CMS-18 #9184206 待售
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ID: 9184206
Sputtering system
Dual chamber with load lock
(3) Cathodes in each chamber
PLC Process control
Substrates: Up to 8” diameter
Substrate rotation
Substrate bias, RF & DC
Substrate heater: Up to 500°C
3” Magnetron sputter cathodes
Process gases: Ar, O2, N2
RF & DC Power supplies
Co-sputter capability.
KURT J. LESKER CMS-18是一種單站高容量濺射設備，專門為可靠和可重復的低溫濺射沈積過程而設計。該系統具有采用傳統直流磁控管濺射和脈沖直流（PDC）的先進特點。它是一種用途廣泛的沈積工具，能夠濺射鋁、鉻、銅、鎳、金和銀等金屬薄膜。適用於學術、工業和研究實驗室。CMS-18單元包括一個用於為濺射頭供電的大容量高壓電源、一個真空室、一個真空泵和一組精確的可變密度目標（VDT）組件。電源能夠為多達四個獨立的濺射頭提供足夠的電源。VDT組件確保均勻一致的濺射沈積均勻性。為了控制沈降速率，提供了一種可變的航天飛機升降機構，可實現精確的均勻目標定位。真空室的最大工作壓力為8 mTorr，適用於直流和PDC模式。大型真空室配有頂部安裝的隔離閥，可在需要或需要時快速安全地隔離氣體。該機還具有溫度和過程監控等先進的過程控制功能。除了濺射工藝外，KURT J. LESKER CMS-18還支持氧化鋁、矽等常見基材材料以及氧化物、氮化物、碳化物、氟化物等其他沈積材料。該工具還包括氣體輸送資產，進一步允許反應性濺射過程。CMS-18是一種高效的工具，它確保所有的過程，如濺射過程都是可靠和可重復的，並且可以顯著提高沈積膜的均勻性。該模型帶有一套用戶友好的軟件，為操作員提供操作參數和薄膜沈積過程的實時信息。KURT J. LESKER CMS-18是一個很好的可靠工具，為不同的物品沈積要求提供解決方案。除此之外,它還提供了極大的靈活性和對過程的控制,以確保實現所需的參數和質量薄膜。CMS-18具有優異的特點,提供了可靠、先進、通用的低溫濺射沈積溶液.
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