二手 KURT J. LESKER Lab 18 #9050909 待售

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ID: 9050909
優質的: 2007
Sputtering system, 4" Single chamber Single load lock DC/RF sputter (5) targets Currently processing 4” wafers, bottom up sputter with IR/Heated sputtering 2007 vintage.
KURT J. LESKER Lab 18是一種最先進的濺射設備,設計用於利用氣體排放工藝從金屬或其他材料生產薄膜。濺射過程開始於在一個封閉的室內創建一個等離子體。這種等離子體,只是一種電離氣體,然後被一種惰性氣體,例如氙,轟擊,從而導致目標物質的原子從其中脫落。然後將脫落的原子以薄膜的形式投射到基板上。因此,精確控制質量、壓力和能量對於確保達到所需的膠片附著力和均勻性至關重要。這就是實驗18的優勢所在。該系統具有各種先進的特點,可以共同確保濺射過程的精度。例如,源腔室壓力是數字可調的,允許操作員輕松地將壓力調整到特定作業所需的任何位置。該裝置還設有一個特殊的可編程目標加熱器,可防止目標在操作過程中過量服用。KURT J. LESKER Lab 18更有特色讓它脫穎而出。機器中已建立了廣泛的安全協議,例如,有氧氣監測儀,旨在通過確保安全的操作環境防止爆炸。該工具還配備了精密的監控資產,並配備了實時閉路電視攝像機,使操作員可以實時觀察濺射過程。最後,可以根據用戶的要求配置實驗18,以便在目標基板的尺寸和形狀以及所使用的目標材料方面具有靈活性。簡言之,KURT J. LESKER Lab 18是一種先進的濺射模型,旨在提高薄膜生產的精度和精確度。Lab 18具有多種功能,旨在確保安全和操作效率,對於任何需要可靠且易於使用的濺射設備的人來說,它都是一個絕佳的選擇。
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