二手 KURT J. LESKER Pro Line PVD 75 #9113549 待售
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已售出
ID: 9113549
Thin film deposition system
Various targets
(2) SS Chamber liners
Turbo pump: 500 l/s
Dry pump upgrade
Torus 3 Sources flange assembly
Torus Source flex mount
KJLC 600W RF Power supply
AE DC Power supply: 1.5 kW
Substrate fixture (Top mount, base unit)
Upstream pressure control
Primary rotation
Recipe driven computer control
TKD 100 Recirculating chiller:
Cooling: 10,000 BTU/hr at 20°C
Condenser: Air-cooled, ambient rating at 90°F
Temperature control range: 5-35°C, ± 1°C
T31H Turbine pump: 6 GPM at 60 PSI
Tank: 2.5 gal
Dimensions: 21½" x 35¾" x 28 5/8"
Connector: 3/4" Female NPT
Interior chamber
Gas tanks & targets
Power: 208/230V, 60 Hz (P2), single phase.
KURT J. LESKER Pro Line PVD 75是為半導體生產而設計的高性能濺射設備。其緊湊的布局和自動化的控制特性使其成為工業用途的理想解決方案。它能夠制造各種材料和厚度的陽極和陰極塗層，以及其他底物修飾。Pro Line PVD 75集成了大功率直流電（DC）源、二維電動級、固態電源以及全控制模塊。直流電源範圍從1.2到50 kW可調，允許改變基板加熱器溫度。配備閉環數字讀出系統的電動級實現了對基板位置的精確、可重復控制。另外,射頻發生器用於濺射過程.通過控制模塊可以設置工藝參數，包括基板溫度、預沈積、濺射直流功率和氣壓，並以數字方式顯示所有信息。該SPI-75還包括一個負載鎖定沈積單元和一個可旋轉的目標支架。該機器能夠容納各種不同尺寸的目標材料。還集成了惰性氣體輸送工具，允許輸送更高的壓力，同時將汙染程度控制在最低限度。KURT J. LESKER Pro Line PVD 75旨在在廣泛的應用中實現高質量的沈積。可以調整工藝參數，以優化項目要求，確保持續高質量的成果。資產還配備了統計過程控制設施，允許對產量、質量和顆粒汙染進行在線反饋。Pro Line PVD 75是一種功能強大的濺射工具,可高效可靠地執行各種沈積和基板修改過程。其高度自動化和復雜的控制功能使其高效,同時產生了當今先進工藝技術最一致的結果。
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