二手 KURT J. LESKER PVD 75 #293608382 待售

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ID: 293608382
Thin film deposition system.
KURT J. LESKER PVD 75是一種基於真空的薄膜沈積設備,用於在剛性和柔性基板上生產各種材料的薄膜。這個系統背後的技術稱為物理氣相沈積(PVD),允許只有幾納米厚的薄膜均勻沈積到各種表面。與其他形式的沈積不同,聚氯乙烯不需要使用可燃氣體或極端溫度,使其成為工業和科學環境中一系列應用的理想選擇。PVD 75具有渦輪分子泵,極限壓力為1x10-10 Torr,2.75英寸混合室。鎢絲蒸發源被包裹在不銹鋼快門中,並受到法拉第保護以消除幹擾。所有電子參數都可以通過觸摸屏用戶界面進行監控和調整。KURT J. LESKER PVD 75的工藝控制器使用戶能夠精確控制沈積速率和層厚,以及功率水平和燈絲電流。該單元還包括一個薄膜厚度監視器,以確保將該層應用於所需的厚度。此外,PVD 75還有VersaCote軟件,它允許用戶為不同的電影應用創建高度精確、動態的工藝配方。此軟件還允許遠程監視,允許用戶在機器上簽入而不存在。該設置還包括一個負載鎖定室以及一個平面屏幕觸摸屏查看窗口。總體而言,KURT J. LESKER PVD 75是一種用途廣泛、精密的薄膜材料應用於表面的工具。它是專為製造只有幾納米厚的高度均勻的薄膜而設計,並在不引入可燃氣體或極端溫度的情況下這樣做。資產的VersaCote軟件允許精確控制沈積過程,而其集成的電子組件允許進行詳細的監測和調整。PVD 75是從工業環境到科學環境等一系列應用的絕佳工具,是那些尋求精確高效薄膜沈積模型的人的理想選擇。
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