二手 KURT J. LESKER PVD 75 #293778253 待售
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ID: 293778253
優質的: 2006
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Vacuum chamber with multiple ultra-high vacuum (UHV) ports
CTI 8200 Compressor
CTI CRYO-TORR 8F Vacuum pump
SIGMA INSTRUMENTS SQC-122C Controller
ULVAC Scroll pump
MAPS Electronic Vacuum Processor (EVP) Power supply
MAPS Ion source controller, 3"
(3) Thermal boat
Connecting cable
No electron beam (E-beam) source
No magnetron
Chamber capacity: 75 liters
2006 vintage.
KURT J. LESKER PVD 75是一款專為進行薄膜塗層工藝而設計的臺式機式濺射設備，可用於低速和高速率應用。它為用戶提供了生產優質金屬、陶瓷和復合薄膜的有效平臺。該濺射系統由真空室、加工區、電源和各種外圍部件組成。真空室是PVD 75的主要組成部分，由一個金屬crucible和窗口組件組成，由一個重型陶瓷基板支架支撐。它還包括一個獨特的自動抽水裝置，有助於維持真空室內所需的壓力水平。處理區包括一個控制箱和一對目標持有人，用於一次握住兩個濺射源。內部電源為濺射源提供精確的電源傳遞，允許根據正在生產的薄膜類型進行調整。KURT J. LESKER PVD 75還具有先進的控制機器,具有用戶友好的觸摸屏顯示屏,可讓控制器輕松控制工具的各個方面。它使用戶能夠手動調整偏差、性能水平和壓力設置。此外,它還包括高級診斷和錯誤檢測工具,以確保流程平穩高效地運行。資產也緊湊，重量輕，便於運輸。因此，它既可用於低速應用，也可用於高速率應用，例如生產高質量的眼鏡零件或為航空航天和汽車工業生產零部件。它還與一系列其他工藝控制系統兼容，允許對塗層工藝進行更大程度的定制和優化。總體而言，PVD 75為用戶提供了進行各種薄膜沈積過程的可靠平臺。其用戶友好的控制模型、自動化的自動抽水設備和穩健的設計確保了所有過程都能高效、準確地完成。憑借其廣泛的外圍設備組件,它為用戶提供了自定義和優化其流程的更多選項。
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