二手 KURT J. LESKER PVD 75 #9164257 待售

ID: 9164257
Thin film deposition system P/N: PEDP75TCCNN003 Source: Thermal Load: (2) Boats (Not both in parallel) Chamber internal dimensions: 14" x 14" x 24" CTI 8200 Compressor CTI CRYO-TORR 8F High-vacuum pump ULVAC GLD-201b Vacuum pump Trillium cryopump Material evaporated: Ni.
KURT J. LESKER PVD 75是一種濺射沈積設備,可以將機械、光學、電磁膜沈積到基板上。該系統利用四個獨立控制的濺射目標,直徑從75毫米到150毫米,可同時沈積多達四種不同的材料。PVD 75利用三極管濺射槍將惰性氣體(最常見的是散射)引導到目標材料上,允許將表面材料彈出,並將其收集到位於腔室的基板上。目標被安置在一個鎖載室,以便便於目標進入,並盡量減少對艙室和基板的汙染。負載鎖的底壓在機組不使用時保持在6 x 10-6 Torr。KURT J. LESKER PVD 75還設有一臺電腦控制機,帶有19英寸的觸摸屏,可以讓用戶輕松瀏覽機器功能。控制工具包括流程信息、流程配方信息、資產狀態、支持工具、數據日誌記錄、數據端口連接以及其他自定義功能的菜單驅動設置。濺射沈積過程在真空條件下進行,該模型具有優異的真空性能。可達到的最低壓力為5x10-5 Torr。一個渦輪分子泵以隔膜機械泵為後盾,在不到五分鐘的時間內給PVD 75快速泵降次數,壓力上升幅度不超過2x10-5 Torr。KURT J. LESKER PVD 75包括一個集成的樣品加熱設備,允許高達500攝氏度的基板溫度。該系統還能夠精確控制基板和目標距離,以實現均勻沈積。該濺射機的互鎖單元設計用於保護組件免受過壓或暴露於過溫下的損壞。PVD 75還具有廣泛的安全工具,具有故障識別和報警功能。KURT J. LESKER PVD 75是一種可靠的、最先進的濺射資產,非常適合廣泛的濺射沈積應用。其緊湊的設計、集成的供暖和安全系統,以及快速的泵降時間,使其成為研究和工業應用的理想選擇。
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