二手 KURT J. LESKER PVD 75 #9218896 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 9218896
優質的: 2011
Thin film deposition system
Base system:
PVD 75 Base deposition system
Process equipment options:
MAGNETRON Sputtering: (3) Torus 3-source flange assemblies
Sputtering source power supplies:
(2) KURT J. LESKER 300W RF With auto match network
KURT J. LESKER 1kW DC
Substrate fixturing:
Substrate fixture: (Top mount, base unit, add for options)
Primary rotation
Process gas inlet: Upstream pressure control
Film thickness monitor or control: Film thickness monitor
System control / Automation:
Recipe driven computer control
2011 vintage.
KJL KURT J. LESKER PVD 75濺射設備是一種高性能、工業級的薄膜沈積系統，用於塗覆多種材料。它利用物理氣相沈積（PVD）技術將金屬薄層沈積在基板上，形成耐用、耐腐蝕和導電的塗層。該裝置能夠從幾乎任何目標材料生產薄膜，包括不銹鋼、鈦、銅、鎳、鉻等。PVD 75有一個直徑為2英寸的原料室和一個直徑為2英寸的加工室。源材料室的電源通過變頻交流電源提供，具有可調的輸出電壓和電流，從而能夠準確控制沈積速率。KURT J. LESKER PVD 75使用靜電平衡的航天飛機加上特別設計的射頻濺射槍，減少基板上的材料堆積，增加沈積均勻性。自動控制機提供對濺射參數的精確控制，包括功率、氣壓、基板溫度和原料溫度。PVD 75還具有板載的沈積端傳感器,該傳感器可監視濺射過程的性能,並在該過程未最佳運行時提供自動關機功能。除了內置特性外,KURT J. LESKER PVD 75還提供了一系列可選配件,包括直徑2英寸的元素源（可使工具濺射各種元素目標材料）,以及高性能的旋轉源（可提高整個基板的均勻性）。PVD 75還能夠沈積底層以改善附著力、防腐蝕層和導電金屬層。該資產用途廣泛，功能強大，是工業濺射操作的誘人選擇。它還易於設置和操作，使其成為那些不熟悉濺射系統的人的理想選擇。
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