二手 KURT J. LESKER Torus 101 #53523 待售

KURT J. LESKER Torus 101是一種磁控管濺射設備，設計用於薄膜沈積應用。該系統以DC或RF兩種模式運行,以增強塗層的均勻性和附著力。當濺射層的均勻性不是臨界時，DC模式是理想的使用方式，而RF模式則是高密度、高度均勻的材料層的理想選擇。該裝置具有可變氣流控制、壓力控制以及用於精確控制沈積速率、薄膜厚度和其他參數的中央處理裝置。環面101利用產生高能離子的環形磁控管源濺射目標材料。這種設計允許在基板的整個區域上形成極為均勻的薄膜沈積。可以改變沈積厚度，同時在射頻模式下保持均勻的薄膜質量。真空機器被集成到濺射工具中，以去除過程中產生的任何氣體或顆粒。資產包括溫度傳感器和四分之一波匹配網絡，以精確控制離子能量。先進的電源設計可實現高功率和低功率運行。此外，還將渦輪分子泵模型集成到設備中，以達到所需的底物溫度，並在沈積過程中保持最佳的光井穩定性。此外,高級KURT J. LESKER Torus 101濺射系統還具有嵌入式診斷功能,允許用戶評估設備性能。診斷程序提供有關磁控管、真空機、溫度、氣流和其他參數狀態的信息。為了進一步提高精確度，用戶可以從各種精密配方中選擇最佳薄膜沈積。環面101濺射工具是快速均勻的薄膜沈積以及等離子體蝕刻和氧化應用的理想解決方案。該資產旨在滿足任何中型實驗室的需求，並允許可靠和可重復的結果。其多功能性和精確度使其適合於廣泛領域的工業和研究應用，如微電子學、光學、航空航天工程等。