二手 KURT J. LESKER Ultra-high vacuum induction annealing tool #293818957 待售

ID: 293818957
晶圓大小: 8"
8" Load lock Gas inlets Real-time controller (RTC) PFEIFFER Turbomolecular pump, VAT 3-Position pneumatically actuated isolation gate valve PFEIFFER Turbo pump EDWARDS Roughing pump nXDS10 Dedicated turbo pump Control arm Automated heavy duty linear transfer arm (LRP) Effector Mock wafer holder Ports and windows UI Screens AMBRELL Heating power source (1) FUJIKIN FCST1000F Flow controller (1) INFICON CDG025D Capacitance manometer.
KURT J. LESKER超高真空感應退火工具是半導體工業中使用的一種尖端濺射設備,廣泛的應用包括薄膜沈積、退火和材料改性工藝。這款先進的工具集成了最先進的技術,在超高真空(UHV)環境中提供卓越的性能和可靠性。該系統的核心是感應退火特性,能夠在超高真空條件下精確控制材料的加熱和退火過程。感應加熱是一種高效的方法,利用電磁感應在材料內部產生熱量而無需物理接觸,導致基板上加熱均勻,熱應力最小。這使得在半導體制造中退火過程所必需的精確溫度控制和重復性成為可能。KURT J. LESKER工具的濺射能力為薄膜沈積工藝提供了非凡的多功能性。濺射是一種物理氣相沈積(PVD)技術,通過用高能離子轟擊原子或分子從目標材料中噴射出來。這些噴射的顆粒然後沈積在基板上,形成厚度和組成受控的薄膜。該單元配備了多種目標材料,允許沈積復雜的多層結構和合金成分。工具內保持的特高壓環境通過盡量減少反應性氣體和雜質的存在,確保了清潔和無汙染的過程。這對於實現半導體器件所需的具有優異電氣、光學和結構特性的高質量薄膜至關重要。超高真空條件也有利於增強附著力和薄膜密度,從而提高薄膜質量和可靠性。此外,KURT J. LESKER機具有先進的自動化和控制功能,可提高薄膜沈積工藝的效率和可重復性。該工具配有精密的監測和反饋系統,用於實時過程控制,能夠精確調整沈積速率、薄膜厚度、均勻性等沈積參數。這樣可以確保底物和批次的薄膜質量和厚度一致,這對於大批量制造應用至關重要。該工具的用戶友好界面使操作員能夠方便地編程和監控沈積過程,使其適合研究和生產環境。此外,該工具還具有可靠的安全功能,可確保操作員在操作過程中受到保護並防止損壞資產。總之,超高真空感應退火工具是一種最先進的濺射模型,為各種半導體應用提供卓越的性能、可靠性和多功能性。憑借其先進的功能、精確的控制能力和UHV環境,這款工具為用戶提供了實現尖端半導體器件開發必不可少的高品質薄膜所需的工具。
還沒有評論