二手 LEYBOLD Helios 2100 #293601797 待售
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已售出
ID: 293601797
Sputtering system
Targets:
(4) Silicon
(2) NiCr
(2) NbTa
(2) TiTaAI
Turbo pumps:
TPH 1501 UP
TC100
8-Position for 4" deposition
3D Glass tube deposition.
LEYBOLD Helios 2100是為塗覆大面積基板而設計的雙磁控濺射設備。該系統具有兩個獨立的磁控管源,提供了比單源雙目標系統更大的過程靈活性和更高的吞吐量。它還允許廣泛的材料和應用,包括半導體、光學、顯示器和封裝。Helios 2100使用具有0.5-4.0 kW電源的雙磁控管電源進行精密膜沈積。集成直流磁控管濺射源具有內建的過程控制,具有均勻性和可重復性,單元包括集成晶圓溫度監測機。源可以向上和向下移動,以適應多達三個基板尺寸和特點基板之間的可調垂直間隙。該工具還具有板載過程控制器、自動操作、10點晶圓映射資產以及配方和參數保存功能。LEYBOLD Helios 2100具有堅固的設計,便於維護和清潔。外殼的設計旨在減少汙染和停機時間。該模型還提供了多種選項來增加其濺射塗層能力,如直流等離子體源、射頻功率、反應性濺射和多級濺射。集成的脈沖直流、空心陰極和「雙目標」磁控管濺射源提供了更好的膜均勻性和更高的沈積速率。Helios 2100提供了一系列過程控制和保護功能,例如電源控制、水冷和直流電源調節。它的軟啟動設備允許與工廠自動化系統無縫集成,而其全面的軟件包使從PC監控過程變得容易。該系統還包括安全功能,如操作條件超過預設限制時自動關閉。總之,LEYBOLD Helios 2100是一種強大可靠的大面積基板濺射裝置。它提供了卓越的膜均勻性和可重復性,加上廣泛的過程和保護功能,以確保安全和高效的操作。
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