二手 LEYBOLD Helios 400 #293590262 待售

LEYBOLD Helios 400是一款高性能的濺射設備，專為工業和研究應用而設計。它為將薄膜濺射到各種基板上提供了高度的工藝控制和精度。Helios 400有模塊化的設計，允許其配置以滿足特定的應用要求。該系統采用高真空不銹鋼腔室，底壓大於2 × 10-6毫巴。柔性腔室配置最多可容納四個濺射源，具有一系列可用的尺寸。源可以獨立定位，允許大而復雜的薄膜沈積區域。該單元還有一個集成的基板處理機，允許高效和準確的樣品定位。LEYBOLD Helios 400具有LEYBOLD先進的濺射控制工具，提供精確的過程控制和可重復的濺射速率。該資產還與流程監控兼容，允許持續的流程優化。該模型與真空兼容，可與一系列工藝氣體和泵送系統集成。提供了一系列控制器選項,可訪問多個控制功能和一系列數據輸出以進行流程監控。該設備還與一系列外部磁控管兼容，允許沈積具有高磁特性的材料。除了其濺射應用外，Helios 400還可用於多種其他任務，如蝕刻、形成雙層、沈積高反射和保護性塗層等。這種靈活性和控制使得LEYBOLD Helios 400非常適合生產高質量和可靠的薄膜。