二手 LEYBOLD HERAEUS Z550 #9213240 待售

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製造商
LEYBOLD
模型
HERAEUS Z550
ID: 9213240
Sputtering system (4) Magnetron cathodes D = 150mm Sputter down: Cathodes with D = 75mm D = 100mm possible with adapter flange Heating cathode position: Magnetron cathode HF Etching Manual adaptation network: HF Rotary shutter Plant and process visualization: Operating terminal, 9" Pumping system: With D40B / TMP 450.
LEYBOLD HERAEUS Z550是一種高性能的濺射設備,設計用於半導體工業,用於制造薄膜層。它有一個先進的控制系統,提供精確的控制,有脈沖直流濺射、多目標濺射和射頻或直流離子鍍工藝選項。LEYBOLD Z 550具有5區、高均勻性目標組件,結合了多種磁場配置,以更好地引導濺射材料。此單元還提供可選的旋轉濺射,即使在大曲面上也能創建高均勻性。HERAEUS Z550能夠處理各種各樣的材料,包括氧化物、氮化物和金屬。它具有快速的濺射速率,根據工作要求,範圍在每秒0.1到500納米之間。其計算機控制的過程參數可以快速調整,而自動過程控制系統則保證了可靠的運行。Z 550可靠性高,色散低,缺陷率低。它有一個大的加工室,具有高效的真空管線,使沈積過程能夠在最優條件下完成。它還配備了多端口機器,允許多個進程同時完成。憑借強大的體系結構,LEYBOLD HERAEUS Z550可以輕松處理多達十個高功率目標。在安全性方面,LEYBOLD Z 550結合了閉環控制工具,使基板溫度保持在允許的最高水平以下。它還包括了一系列安全功能,如三重光學監控資產,以確保安全運行。它還設計符合最新的行業安全標準。總體而言,HERAEUS Z550是為半導體工業中的高質量薄膜層沈積而設計的強大而可靠的濺射模型。它具有高均勻性的目標裝配、計算機控制的工藝參數和較低的缺陷率。它還包含了多種安全特性,允許安全可靠的操作。
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