二手 LEYBOLD HERAEUS Z400 #9363002 待售
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ID: 9363002
優質的: 1982
Sputtering system
(3) Cathodes
RF Mode
Maximum sample size: 3"
Number of targets: 3
Reactive gases: Ar, O2
Compressed air pressure: 7 to 9 Bars
Water pressure: 4 to 7 Bars
Substrate bias: Maximum -150 V
Substrate heater: Maximum 500°C
Base pressure: <2 x 10^-5 mBar
Generator:
Type: IGD 0.5/13500
Power: 0.5 kW, 220 V, 50 Hz
DC Power supplies: 500 W
RF Power supplies: 600 W
Power supply: 220 V, 50 Hz, 25 Amps
1982 vintage.
LEYBOLD HERAEUS Z400濺射設備是一種高度專業化的設備,用於各種不同的行業。它是一種常用於薄膜生產的真空沈積系統，如用於生產微電子元件、太陽能電池等薄膜技術的。Z400的獨特之處在於它能夠實現厚度和摻雜均勻的高密度沈積物，同時還具有出色的工藝控制和可靠性。LEYBOLD HERAEUS Z400主要由三部分組成：電源、真空室和沈澱源.電源包括兩個高壓輸出，一個用於直流（DC），另一個用於交流電（AC）。直流輸出用於驅動Ar或Xe濺射，而交流輸出用於驅動離子轟擊，也稱為離子輔助沈積。與每個輸出相關的高壓電勢和頻率是可調的，允許更大的過程控制和操作。真空室由工藝氣體和沈積源之間的界面組成。這就是保持真空水平的地方，同時允許將反應性氣體和非反應性氣體引入腔室。本節還包含將目標材料引入設備所需的端口。沈積源是將目標材料放置並濺射到下面的基材上的地方。在Z400上，采用旋轉滾筒濺射機實現高密度、均勻的沈積。該工具還包含石英窗，能夠加速源燃燒能力，而腔蓋則配備了用於基板清潔和離子轟擊過程的電子槍資產。LEYBOLD HERAEUS Z400是一種先進、可靠的濺射模型,在薄膜沈積方面提供無與倫比的工藝控制和設備性能,可廣泛應用。它結合了旋轉滾筒濺射、離子轟擊和廣泛的工藝控制，使其成為生產最佳薄膜沈積的理想工具。
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