二手 LEYBOLD HERAEUS Z550 #131001 待售

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製造商
LEYBOLD HERAEUS
模型
Z550
ID: 131001
Semi-automatic cathode sputtering system Includes: (Qty 2) PK150 magnetron sputtering cathodes: 6" diameter Cathodes for DC and RF DRESSLER Caesar 2.5 kW RF sputtering power supply DRESSLER VM 3000 automatic matching unit GS30 / 800 ADL DC sputtering power supply, 3 kW Substrate table with water cooling and RF-bias / RF-etching Gas inlet system with mass flow controller Second gas inlet is prepared LEYBOLD D-60A prevacuum pump LEYBOLD Turbovac 450 turbomolecular pump with LN2-baffle.
LEYBOLD HERAEUS Z550濺射設備是一種高性能、低成本的薄膜真空沈積工具。它是為各種材料在各種尺寸和形狀的基板上的精確和受控沈積而設計的。該系統能夠沈積10至100 nm厚的物料層,可用於各種基板和材料上的薄膜物理氣相沈積(PVD)。LEYBOLD HERAEUS Z 550具有許多功能,使其成為高精度PVD應用的最佳選擇。它包括一個具有200 mm x 200 mm設計面積的現代閉環單元,這使得它非常適合更大的基板。腔室的溫度範圍高達200 °C,可以在整個基板上進行溫度控制和均勻性。此外,該機具有高精度的氣體輸送工具,使氣體得以精確的引入和控制。HERAEUS Z550包括許多其他功能,使其特別適合PVD應用。它具有高精度、低真空沈積的高真空泵機。資產也可以配置為雙階段沈積,這意味著可以在一個周期內執行兩個不同的過程步驟。這樣可以沈積較厚的層,以及不同材料較薄的層。LEYBOLD HERAEUS HERAEUS Z550還具有精確控制的校準和校準模型,可確保每個循環的沈積質量一致。這有助於減少變化並確保不同基板上薄膜厚度的均勻性。它還有助於減少雜質或聚氯乙烯中使用的氣體點火對基板造成任何損害的可能性。此外,設備完全自動化,並配有用戶友好界面,便於設置、操作和控制。最後,Z550是高精度PVD應用程序的經濟高效選擇。它提供了一個全面的功能包,而不打破銀行,使它成為一個聰明的選擇,任何人都希望將各種薄膜沈積到各種基板。
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