二手 LEYBOLD HERAEUS Z550MS #293766919 待售
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ID: 293766919
Sputtering system
Load lock system
Pumping system
Turbo molecular pump
Vacuum gauge control
D40B Rotary vane pump
IM 110D Ionization vacuum gauge
Flow control for (2) Gases
Substrate load lock
Power switch
Process module
DC Power supply.
LEYBOLD HERAEUS Z550MS是在各種工業和研究應用中為薄膜沈積設計的最先進的濺射設備。該系統由領先的制造商LEYBOLD HERAEUS開發,集成了先進的技術,提供高性能的濺射功能,具有卓越的精度和控制能力。Z550MS單元的核心是磁控管濺射技術,它允許高效的材料沈積到基板上。磁控管濺射涉及利用磁場來增強目標材料周圍的等離子體密度,從而產生更加均勻受控的薄膜沈積過程。LEYBOLD HERAEUS Z550MS配備了多個磁控管源,使得多種材料的沈積和復雜的多層薄膜的產生成為可能。Z550MS具有堅固的真空室,為濺射過程提供清潔和受控的環境。該機配備了高性能抽油機,能夠達到和維持高質量薄膜沈積所必需的超高真空水平。真空室的設計還能最大限度地減少汙染,確保薄膜性能的可重復性。LEYBOLD HERAEUS Z550MS資產的關鍵亮點之一是其先進的過程控制能力。該模型配備了精密的監控系統,允許操作員實時精確調整氣體流量、沈積速率、目標功率、基板溫度等參數。這種控制水平保證了膜的厚度、成分和附著力均勻,優化了沈積薄膜的質量和性能。Z550MS還具有一個用戶友好的界面,配有簡化設備操作和數據分析的直觀軟件。操作員可以輕松地對濺射過程進行編程和監控,查看實時數據,並生成詳細的報告進行進一步分析。該系統的自動化功能簡化了工作流程,提高了薄膜沈積應用程序的效率和生產率。在多功能性方面,LEYBOLD HERAEUS Z550MS提供了廣泛的配置和定制選項,以滿足特定的應用程序要求。從單基板研究裝置到大型生產系統,Z550MS可以量身定制,以適應不同的基板尺寸、形狀和材料。另外,該單元與各種濺射靶標兼容,包括金屬、氧化物和氮化物,允許沈積廣泛的薄膜材料。LEYBOLD HERAEUS Z550MS的設計考慮到可靠性和耐用性,適合在苛刻的工業環境中連續運行。機器部件由高質量的材料構成,經過精心設計,能夠承受濺射過程的嚴酷。LEYBOLD HERAEUS提供全面的技術支持和維護服務,以確保Z550MS工具的最佳性能和正常運行時間。總之,LEYBOLD HERAEUS Z550MS濺射資產是薄膜沈積應用的前沿解決方案。憑借先進的磁控管濺射技術、堅固的真空室、精確的過程控制功能和用戶友好的界面,Z550MS為廣泛的工業和研究應用提供了卓越的性能、多功能性和可靠性。無論是用於研發還是大規模生產,LEYBOLD HERAEUS Z550MS都能提供高品質的薄膜,具有非凡的均勻性和可重復性。
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