二手 LEYBOLD HERAEUS Z650 #27258 待售
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ID: 27258
Sputtering system equipped with load lock / exit chamber with Leybold Trivac D65B prevacuum pump, Leybold Turbovac 1000 turbo molecular pump, and RF plasma cleaning. Process chamber A with Alcatel 2063 prevacuum pump and Pfeiffer TMH1001P turbodrag pump (TMH is as good as new), 3 x new PK 200 sputtering cathodes positions, RF and DC sputtering power supply, (combined with process chamber B), Balzers QMG064 massaspectrometer; Process chamber B with Leybold Trivac D65B prevacuum pump, Leybold Turbovac 1000 turbo molecular pump, 2 x new PK 200 sputtering cathodes positions, 1x substrate heating position, RF and DC sputtering power supply, (combined with process chamber A), RF bias, Balzers QMG064 massaspectrometer, can be retrofitted to your specs.
LEYBOLD HERAEUS Z650是一種用於薄膜沈積的濺射設備。該系統用途廣泛，可用於多種材料，如氧化物、氮化物和金屬。該單元由一個超高真空室、一個磁控管陰極和一個嵌入式真空過程控制器（EVPC）組成。該機最多可容納兩個目標進行濺射，可同時用於直流和脈沖直流濺射。LEYBOLD HERAEUS Z 650具有一系列功能,可確保過程穩定性、可重復性和精度。這些特點包括：基於微處理器的嵌入式真空處理控制器（EVPC），具有5.7英寸的屏幕和觸摸板用戶界面；具有前泵裝置的三重渦輪分子泵站；內置冷卻器的閉環冷卻工具；以及自動定位資產,可確保可重復的濺射結果。Z650提供了大量令人印象深刻的過程參數,允許用戶根據其指定的需求自定義模型。為達到可重復、精確的效果，設備提供了精確的流量控制系統、可調高壓、精確的壓力傳感器單元和精確的目標放置。機器也有能力使用高溫合金作為目標，允許沈積最具挑戰性的薄膜。Z 650提供了許多附加功能,例如等離子體監視器、防棒裝置和高頻濺射監視器。該工具還具有精確的沈積監測器，以確保薄膜的精確和一致沈積。防棒裝置允許從難以清潔的表面取出薄膜。高頻濺射監測器確保膜的徹底和均勻沈積。LEYBOLD HERAEUS Z650是一種高度通用和精確的濺射資產，能夠沈積各種材料的薄膜。該設備具有閉環冷卻模型、精確定位目標、高頻濺射監視器和等離子體監視器等多種特點，旨在提供對工藝參數的出色控制。該系統非常適合需要精確可靠的濺射工藝的制造商。
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