二手 LEYBOLD L 560 K #293824931 待售

LEYBOLD L 560 K是一種高性能的濺射設備，設計用於沈積用於多種工業應用的薄膜。作為真空塗層系統，廣泛應用於半導體、光學、電子行業，在玻璃、陶瓷、金屬等基板上生產優質薄膜。該單元配備了先進的特性和能力，以確保對沈積過程的精確控制，從而產生具有優越均勻性、附著力和厚度的薄膜。L 560 K的關鍵部件之一是濺射室，它是發生沈積過程的真空密封外殼。該腔室通常由高級不銹鋼制成，以確保堅固性和耐腐蝕性。在腔室內部，有一個或多個由要沈積的材料制成的濺射靶子，如鋁、鈦或銅等金屬。這些目標被高能離子轟擊，通常由等離子體或離子源產生，導致原子被噴射並沈積到基板上。LEYBOLD L 560 K中的濺射過程由一臺精密的電源和控制機器控制，該機器調節施加在濺射目標上的電壓、電流和頻率。這樣就可以精確調整沈積速率、薄膜厚度和其他對達到所需薄膜性能至關重要的參數。此外，該工具還配備了實時監測和反饋機制，以確保最佳工藝控制和膠片質量的一致性。L 560 K的優點之一是它在處理廣泛的沈積材料和基材方面的多功能性。資產可以容納各種目標大小和形狀,從而在選擇材料和沈積配置方面具有靈活性。此外，該模型還配備了多個沈積源，如磁控管濺射或射頻濺射，以使具有不同材料組成的復雜多層薄膜能夠沈積。LEYBOLD L 560 K還具有高性能的抽水設備，可以達到濺射過程所需的超高真空水平。抽水系統通常包括渦輪分子泵、低溫泵和粗加工泵的組合，以確保將腔室快速有效地排空到所需的真空水平。這不僅提高了沈積膜的質量，而且減少了室內的汙染和雜質，導致了更清潔、更可靠的薄膜塗層。總之，L560 K是一種先進的濺射裝置，為各種工業應用中的薄膜沈積提供了先進的性能和精確的控制。該機器設計多種多樣、性能高、界面方便,非常適合研發以及高質量薄膜塗層必不可少的大型生產環境。