二手 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 2460 #50094 待售

ID: 50094
Sputtering system, turbo and cryo pump replaced Electrical rack with original operating system (window 2000 and Wonderware with GE 90-30) SST Chamber with motor drive lid Four pockets He backside 6" wafer notch (or custom) 10 KW/Matching Network RFPP for target 2 KW/Matching Network RFPP for substrate He backside gas with pressure control Pumping: Turbo pump and water pump package with ISO 250 Flange. QDP40 Dry Pump foreline 17” Target backing plate Currently disassembled and in parts.
MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460濺射設備是一種半導體金屬化系統,設計用於在低溫下將極薄的金屬膜層沈積到各種基材上。該裝置利用工藝氣體的分壓和負直流濺射電源,產生高度均勻的薄膜,並嚴格控制表面粗糙度和厚度。濺射機采用獨特的形狀,形成適合先進半導體器件制造的薄膜。MEIVAC 2460對薄膜層的結構和組成提供了卓越的控制和靈活性。這些層是使用高純度反應物氣體和最適合低溫和細線金屬化的三極管陰極等離子體生產的。等離子體是通過一個充滿反應物氣體的反應室施加高壓形成的,創造了一個非常適合薄膜沈積的富含離子的環境。ALCATEL 2460濺射工具設有旋轉基板臺。這允許高吞吐量,並且可針對角位置和徑向位置進行調節。這確保了薄膜層在所有基板上的均勻性和可重復性。COMPTECH 2460進一步配備了室緣式快門式氣體噴射器,以提高濺射速率。2460通過嚴格控制基板上的通量輪廓,產生極均勻的薄膜,導致充電效果低,附著力好,貨架壽命顯著提高。此外,MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460具有高度均勻的負直流電源,提供了出色的目標侵蝕控制和對基板映射的濺射功率調整。它還具有先進的工藝氣罐,以便在操作過程中保持工藝氣體的最佳純度和壓力。MEIVAC 2460濺射資產有許多應用,包括OLED制造、薄膜晶體管、磁記錄介質、等離子體和光電器件。憑借其先進的控制和靈活性,ALCATEL 2460提供了無與倫比的性能、可靠性和可定制的選項。
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