二手 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 2460 #9174879 待售

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ID: 9174879
晶圓大小: 6"
優質的: 2001
RF Sputtering system, 6" Process chamber ultimate vacuum: ≤2.0E^-6T Process gas pressure range: 0-50mt Process gas flow: 1-200sccm RF: Up: 0-2 kW Down: 0-5 kW Power: 208V, 60Hz, 3 Phase, 125A 2001 vintage.
MEIVAC/ALCATEL/COMTECH 2460濺射設備是一種先進的真空處理技術,用於半導體、醫療和航空航天等各行業的基板上。該系統使用真空室、專用設備以及多種氣體,用薄薄的材料層覆蓋材料。濺射裝置創造了一個受控的環境和專門的面罩或圖樣,作為將所需材料沈積到基板上的一種方式。MEIVAC 2460濺射機可以創建層或塗層,精度接近原子層。工具從真空室開始,通過使用泵來降低腔內壓力。空室內充填惰性氣體,例如氙氣,以防止材料氧化和點火。濺射過程從放置在真空室中的目標材料開始,然後在受到低壓等離子體放電時將其蒸發,指向它。當目標物質被等離子體流撞擊時,其分子被噴射到基板表面,從而形成材料的薄塗層。ALCATEL 2460濺射資產支持先進的控制過程,包括對等離子體進行微調,以降低生成層的均勻性。該模型對基板材料、沈積速率、接觸角和絕緣水平采用最精細的調諧控制。該設備還能夠使用濺射塗層和接觸傳遞技術的組合創建高級模式。此外,此系統還使用特殊蒙版來放置與各種材料重叠的圖案。COMPTECH 2460濺射裝置的性能非常可靠、高效,精密塗層或層的制造速度比傳統方法更快、成本效益更高。這臺機器能夠創建高質量的層,在實現納米電子設備和部件的非常小的結構方面發揮著重要作用。此外,由於其用戶友好的設計和界面,此工具易於維護。總體而言,2460濺射資產是滿足薄膜處理要求的一種多功能解決方案。此模型為各種基材和應用提供可靠、經濟高效的塗層,而不會影響性能。這種先進的設備允許用戶減少生產周期時間,並可以幫助提高產量,減少停機時間。
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