二手 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 602B #9203526 待售
網址複製成功!
MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 602B是一種高精度、高效的濺射設備,設計用於沈積金屬、電介質和氧化物等薄膜材料。該系統能夠生產厚度變化範圍廣泛、表面特性控制良好的均勻優質薄膜。MEIVAC 602B利用磁控管濺射技術,該技術涉及在一個腔室內產生的加速離子,然後與沈積材料的目標碰撞。除了標準化之外,該單元還提供了一系列用於定制的功能,使其成為薄膜沈積的可靠選擇。ALCATEL 602B裝有一個直徑200毫米的腔室和兩個能夠獨立或同時用於沈積的目標。它的真空泵由根部和渦輪泵兩者組成,可達到8x10-7 Torr,使其能夠使用廣泛的材料。它還具有用熱交換器控制溫度的能力,以準確控制基板和沈積溫度。還提供各種電源,包括DC、dB和脈沖功率級別,以及可調頻率和基板偏置功能。整個機器能夠以每秒100埃以上的速度運行選定的進程。此外,602B還配備了專用閥門、氣體混合工具以及先進的自動化功能,使薄膜能夠精確地沈積。它易於使用的界面還允許用戶遠程監控工藝參數,使其成為各種沈積應用的絕佳選擇。該資產還能夠集成到更大的生產線中,並可以使用額外的輸送機、晶片裝載機和專用的噴嘴模塊來提供最大的精度和靈活性。作為一個整體,COMPTECH 602B是一個高度先進的模型,能夠生產出高質量、高一致性的均勻薄膜,適用於廣泛的應用。通過使用精密濺射技術,用戶能夠在一系列材料和基材上創造出準確可靠的結果。此設備的高級功能和自動化功能進一步提高了用戶的控制水平和準確性。
還沒有評論