二手 METRON Eclipse #9077820 待售

METRON Eclipse是一種濺射設備，設計用於提供具有特殊控制和均勻性的高沈積速率。該系統是一種高效的PVD層濺射機，利用單個主腔室和單個旋轉平臺，使用戶能夠同時濺射多個晶片。該單元具有獨特的模塊化設計,可方便地為各種應用程序定制和配置它。Eclipse能夠在相對較低的壓力下提供高沈積速率，而不犧牲質量或均勻性。METRON Eclipse是基於陰極電弧PVD的設計，加上旋轉機使層沈積可以在多個晶片上同時進行。該工具配備了自動加載/卸載資產，使用戶能夠快速、輕松地將晶片從一個位置移動到另一個位置。Eclipse使用直流電和可變電源濺射各種組成、大小和形狀的材料。METRON Eclipse非常適合銅、鈦、鎳、鈷和鋁層，因為這些材料對濺射的阻力最大。該模型采用高效、均勻的沈積技術，保證了晶圓整個表面積的均勻覆蓋。Eclipse支持廣泛的沈積技術，如離子束、旋轉和射頻等離子體。集成室加熱/冷卻設備可確保正確保持濺射溫度,並可引入濺射氣體。該系統配備了可調節溫度範圍在0-50°C的集成冷卻單元，讓用戶將冷卻液溫度保持在理想水平。腔室的壓力可以從0.1毫巴調整到6毫巴，用戶有能力輕松控制電流、電壓、氣壓和流量。METRON Eclipse有一個易於使用的圖形用戶界面，用於設置和監視濺射過程。該機具有高的沈積速率兼容性，1：1的縱橫比濺射速率為250 nm/min，2：1的縱橫比為155 nm/min。4：1寬高比的存款率為105 nm/min，5：1寬高比則為48 nm/min。Eclipse為用戶提供了等離子體穩定性和均勻性方面的最高控制，為連續濺射過程提供了嚴格的控制範圍和均勻性。此外，該工具的設計比直流濺射技術產生更好的效果，產生更高的膜密度和更好的附著力。總體而言，METRON Eclipse是制造具有卓越均勻性和沈積特性的層的理想濺射資產。它是一種高效、安全、可靠的機器，易於設置和操作，非常適合各種濺射應用。該模型具有較高的沈積速率和均勻性，適用於小型生產和研究實驗室的應用。