二手 MRC 603 II #293647878 待售

製造商
MRC
模型
603 II
ID: 293647878
Sputtering system (3) Cathodes Cryo pump Gasses: Argon, Oxygen Wafer configuration: 16 x 3 inches 9 x 4 inches 5 x 5 inches 4 x 4 inches.
MRC 603 II是由制造公司歐瑞康萊博爾德真空開發的濺射設備。它是一個強大的工具,設計用於重復工業加工和濺射多達四種不同的材料在一個運行。這使得它非常適合廣泛的應用,包括薄膜、塗層和保護性塗層。MRC 603-II有兩個不同的模塊,一個陰極源和一個目標腔室,都連接到單個電源。這使得系統能夠以脈沖電流和恒定電流運行。陰極源模塊由兩個腔室組成:一個用於濺射陰極,另一個用於加熱基板。目標腔室設計為同時濺射多達四種不同的材料,並具有集成渦輪泵,以更快的處理時間。603 II是一個極具效率的單元,能夠生產高質量和均勻性的產品。它的真空控制機器也有助於確保清潔的工作環境,讓用戶安心,他們的產品不會受到殘留顆粒存在的不利影響。除了效率外,603-II還非常方便用戶。它的用戶界面的設計使其易於操作,具有多種設置,允許用戶根據自己的需求定制自己的工具。還有一系列可選的附加功能,如金屬和陶瓷目標,可以添加,以擴大應用範圍。總體而言,MRC 603 II是一種可靠有效的濺射資產,適合多種用途。它的易用性、效率和靈活性使其成為希望利用其全部功能的人們的熱門選擇。
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