二手 MRC 603 II #9102669 待售

MRC 603 II是一種緊湊、自動化的高性能濺射設備，設計用於將金屬或介電材料薄膜沈積到各種基板上。它利用射頻（RF）電源產生高功率射頻場，電離含有要沈積的目標材料的稀有氣體混合物。濺射材料隨後與基板碰撞，形成薄膜塗層。該系統非常適合需要高比例材料沈積的應用，包括工業生產和研發應用。MRC 603-II配備了一個高度可靠的閉環過程控制單元，用於精確控制沈積速率和薄膜厚度。該機具有兩個獨立的射頻電源，每個等離子體最多可提供200W個，以及七個獨立控制的目標和底物支架，用於多層薄膜沈積。它堅固耐用的不銹鋼設計采用緊湊的便攜式外殼，非常適合實驗室和生產使用。該工具設計用於在單個腔室資產中操作,支持單個目標或多個目標旋轉以進行多層沈積。根據目標材料的不同，在加熱或不加熱的構型中，它接受的基板尺寸可達8英寸，厚度可達4英寸。603 II還具有真空管理模式，以確保高達5x10-7 Torr的高真空環境。該設備設計靈活,可提供多種濺射過程,包括直流、脈沖直流、雙頻或射頻。它還提供方便用戶的軟件，便於設置和監測工藝參數，以及沈積後分析。603-II是一個強大而可靠的濺射系統，適用於各種薄膜沈積應用。憑借其緊湊的設計、靈活的操作模式、用戶友好的軟件和高效的過程控制單元，為各種應用獲得高質量的薄膜提供了一種經濟高效的方法。