二手 MRC 603 III #9102670 待售

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製造商
MRC
模型
603 III
ID: 9102670
Sputtering System AE DC MDX power supply AE RFX 3000 power supply Metal targets in DC mode: Al, Ni and Ti RF used for sputter etch station Super Switch to use RF or DC on all targets Currently de-installed.
MRC 603 III是為薄膜沈積而設計的多功能濺射設備。該系統利用磁控管陰極技術,在各種附著力優良的基板上生產高均勻塗層。該設備的設計可提供高性能,提供出色的可重復性和易操作性。MRC 603-III機能夠沈積多種薄膜,從單層到復雜的多層堆棧,無需基板專用設備。這種多功能性使得它能夠被廣泛的行業使用,從汽車制造到精密光學和微電子制造。603 III工具裝有13.56MHz、2kW磁控管,用於等離子體增強濺射。這種強大的磁控管即使是最苛刻的薄膜沈積要求也能輕松處理。資產還包括一個特殊的高性能網格,對濺射過程提供額外的控制。603-III還具有其他一些有助於確保薄膜沈積最高標準的功能,包括可編程控制模塊、自動重復循環過程、內置氦氣泄漏檢查模型和安全熱開關。此外,設備還設有專門的腔室,旨在確保各種基板和應用的高度均勻性和質量。最後,MRC 603 III有多種選項,使系統更容易根據個人需求定制。其中包括各種樣品安裝夾具、目標材料夾具以及具有不同尺寸和配置的腔室。所有這些特性使得MRC 603-III一個理想的薄膜沈積單元的各種應用。高性能和多功能性使其成為任何精密塗層項目的理想選擇。
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