二手 MRC 603 III #9248081 待售

MRC 603 III是牛津儀器設計制造的基於真空的濺射設備。它是一種先進的物理氣相沈積（PVD）系統，用於半導體及相關行業的薄膜沈積。MRC 603-III是一種八室磁控管濺射裝置，經過充分集成和優化，具有高質量的塗層性能。它具有獨特的雙態磁控管濺射槍配置，有助於最大限度地提高薄膜質量。該機還包括一個鎖載室、一個高性能渦輪分子泵（TMP）和一個集成真空過程監測工具。它能夠以較高的沈積速率濺射各種材料，為大面積應用提供了優越的覆蓋面。603 III使用多種高性能反應氣體和目標材料進行沈積。該資產配有電磁屏蔽，一次最多可容納四個磁控管。603-III包含了廣泛的專有過程控制技術,例如先進的溫度控制、氣流控制和增強沈積材料的均勻性。該模型還通過自動基板加載和卸載以及從基板到基板的一致可重復性來確保沈積過程的最大重復性。隨著溫度、速度、壓力和真空控制措施的廣泛選擇，MRC 603 III提供了出色的工藝一致性，並為金屬、塑料、玻璃、陶瓷和其他特殊材料等多種基材提供了高質量的沈積工藝。此外,該設備還具有先進的子系統控制、監控和診斷功能。所有的過程參數都可以很容易地監控，在任何給定的時間提供關於系統性能和過程條件的準確數據。MRC 603-III還具有用於數據輸入、過程監控、單元診斷和過程控制的高級觸摸屏人機接口（HMI）。總之，603 III是一款先進的性價比濺射機，提供卓越的薄膜性能。該工具具有強大的功能集，非常適合大面積沈積和生產具有可重復工藝效果的高質量薄膜。