二手 MRC 603 #166780 待售

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製造商
MRC
模型
603
ID: 166780
In-line sputter system Features 3 Planar magnetron targets RF & DC sputter capability Cryo pumped.
MRC 603是由Advanced Energy Industries, Inc.開發的磁控濺射設備,用於薄膜沈積。該系統配有兩個直流磁控管源,利用朗繆爾-柴爾德定律產生動態跨場磁控管濺射。通過這個過程,目標材料的顆粒被濺射並與基板碰撞,導致在基板上形成薄膜。603單元設計用於處理多種基材,包括金屬和半絕緣材料。它具有低功耗、降低機器成本和提高濺射沈積率等優點。此工具具有內置的自動端點檢測和控制資產,無需手動監控濺射過程。MRC 603可以配置兩個紫外線(UV)光源,提供穩定、高強度的光輸出。然後通過投影透鏡將這種光聚焦在沈積目標上。通過這個過程,目標物質暴露在紫外線下,然後以蒸氣雲的形式升華,沈積到基質上。603模型在沈積參數的選擇上提供了靈活性,並允許在薄膜沈積過程中優化工藝條件。還可以在系統中添加氧氣流動設備,以鼓勵更快的沈積速率。此外,該裝置允許包括各種離子源,如摩根石、鈦鉑和二氧化碳(CO2)。MRC 603機的這些特點和功能使其成為薄膜沈積的理想選擇。高度的控制、準確性、靈活性和成本效益使這一工具對各種沈積應用具有吸引力。能夠處理多種基材並進行精確和可再現的薄膜沈積,為用戶的薄膜工藝提供了更好的性能。
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