二手 MRC 603 #201033 待售

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製造商
MRC
模型
603
ID: 201033
Inline sputtering system.
MRC 603是MRC制造的高端濺射設備。專門為生產薄金屬和氧化物而設計。該系統能夠沈積各種材料,包括金屬、合金、氧化物和化合物。該單元有兩個濺射目標,最大尺寸為300毫米。這兩個目標都能夠產生高達200 kV的直流電壓,而功率可以調節到高達25 kW。電極使用直流電源供電,因此可以達到高達4.5 nm/min的沈積速率。603配備了高性能目標定位機,可以讓一系列不同大小的目標精確定位在基板上。它還有一個先進的濺射控制工具,使材料的精確和可重復的沈積。濺射資產還具有快速物料轉移的能力,目標切割過程可確保精確調整而無需人工操作人員幹預。使用敏感材料或小型材料時,此功能非常有用。MRC 603還具有自動壓力平衡模型,有助於保持最佳沈積條件。它能夠在許多不同的壓力條件下運行,從真空到高壓環境。該設備還具有先進的絕緣和冷卻功能,並具有多種散熱功能,以確保精確的濺射效果。它有一個內置的電離系統,有助於降低汙染風險。總體而言,603是一種高效可靠的濺射裝置,能夠生產薄金屬和氧化物。它是耐用的,並且可以產生精確的結果,以最小的人工幹預。機器的先進特性使其成為任何高端沈積需求的絕佳選擇。
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