二手 MRC 603 #293629525 待售

MRC 603是一種最先進的濺射設備，用於各種薄膜沈積應用。它配備了大功率的射頻和直流磁控管濺射源，允許金屬、介電和半導體薄膜的精確一致的沈積。603具有廣泛的功能，包括基板尺寸可達18 「x 24」，溫度控制範圍從室溫可達300 °C，最多可達3個獨立的沈積源，使用該系統可沈積多種材料。該單元還包括多軸機械手、基於Web的軟件控制機、溫度和壓力感測能力以及自動材料和參數選擇。此外，該工具是自我監測，以防止碰撞、壓力過大以及可能影響沈積質量的任何其他計劃外事件。MRC 603濺射資產的設計可提供最佳的薄膜沈積性能。其大的反應性和電弧室允許非常高效的沈積；精密快門組件進一步確保了其均勻性。其原位清洗能力保證沈積物質量一致，而模型的高吞吐量允許快速生產。此外,603的靈活性有助於確保所有應用程序都能得到解決,而不管層組合和材料曲面的復雜性如何。MRC 603結合了強大的高級工程和先進的軟件控制，成為高質量薄膜沈積的理想工具。其多用途的沈積源、溫度和腔室大小陣列，以及高沈積率、可靠性和多軸機械手，使603成為一種強大而全面的設備。它是各種沈積應用的理想工具，從高性能導電金屬膜到保護性介電層和半導體層。使用MRC 603,用戶可以確保可靠和高效的生產,以及能夠容納各種應用程序的各種功能和材料。