二手 MRC 603 #293667099 待售

MRC 603是為在真空環境中沈積而設計的濺射沈積設備。該系統由濺射源、離子源、樣品支架、真空室和電源組成。濺射源由一個直流電（DC）陰極和一個陽極組成，陽極帶電的電壓很高，通常在-400至1000伏之間。這種電荷引起帶正電荷的氣體離子轟擊，導致源中所含物質濺射沈積到樣品支架上。離子源用於中和濺射過程中產生的任何帶正電的離子。這確保了濺射的顆粒大小均勻，降低了樣品汙染的風險。樣品架由一個旋轉的滾筒組成，最多可容納七個樣品。這允許在相同條件下進行可重復和高質量的沈積。真空室是單元的主要部件，設計用於維持10-5 Torr的恒壓。為了承受這種壓力，機器中安裝了一個旋轉泵，用於疏散腔室。從腔室液晶屏上仔細監控和控制壓力。在兩次沈積之間，使用高納米的清潔墨盒清洗腔室，用來清除腔室墻壁上的任何堆積材料。電源是濺射工具的最終組件，用於控制濺射過程的電流、電壓和時間。它能夠同時控制多達三個來源，允許同時沈積額外的材料。電源還包括計時器,可實現精確且可重復的濺射過程。綜上所述，603濺射資產旨在在真空環境中為零件表面提供均勻一致的塗層。該模型允許同時沈積，並且易於操作，從而獲得可靠的結果。