二手 MRC 603 #293761946 待售
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MRC 603是一種用於薄膜沈積的濺射設備。它采用直流電、平面磁控管源，利用永磁產生定向等離子體流。濺射系統配有可變功率射頻源，以提供額外的離子能量控制。603是一個緊湊的單元，能夠在直徑達8英寸（203毫米）的基板上產生高達1000 nm/min的薄膜沈積速率。該機配有加熱陰極、原真空室、4象限質量流控制器、互鎖工具、快門和夾具。加熱陰極是MRC 603中決定所得薄膜沈積質量的主要元素。它使用溫度控制的加熱器和計算機控制的溫度傳感器來維持適當的溫度，並確保均勻、一致的沈積結果。原真空室是一個圓柱形的腔室，側面有一個面向濺射目標的狹縫。該室的設計目的是為沈積過程保持一個苛刻的清潔環境。它具有擋板底部以增強均勻泵送，以及低真空排氣環以降低整體壓力和保護基板免受汙染。4象限質量流控制器用於調節活性濺射氣體混合物的各個組分，維持沈積過程的最佳條件。互鎖資產監測大氣壓力、基板溫度、濺射功率和氣體。一個快門和夾具模型允許進入濺射區準備和去除基板。當射頻發生器打開時,快門自動打開,並在關閉電源時關閉。該夾具用於保持基板的位置,並在最短停機時間內方便基板交換。603是一種高度可靠、堅固和高效的濺射設備，用於各種薄膜沈積應用。為實現均勻、可復制的薄膜沈積結果提供了精確的幾何參數控制。
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