二手 MRC 603 #9008357 待售

MRC 603是一種為薄膜沈積而設計的濺射設備，能夠對優質材料進行磁性和直流電濺射。系統裝有200毫米磁控管陰極，允許雙向精確、可重復的濺射。該裝置有一個真空室，能夠容納直徑不超過6英寸、厚度不超過1英寸的基底，基壓小於5 × 10-6托。其操作由內置軟件的觸摸屏PC控制，簡化並允許用戶設置電源電壓、氣流控制、等離子體參數等參數，用於精確控制濺射過程。機器的主要部件是電源、真空室、陽極陰極、目標、背板和屏蔽。603提供了一個易於使用的平臺，可以在一系列材料上存放高質量的膠片。它能夠從單角源和雙角源濺射正負離子，允許更精確的定向濺射。該工具還包括一個獨立的二次電子槍，提供對離子束沈積角度的控制，提供在一系列材料上產生更厚和更光滑的薄膜沈積的能力。該資產對包括目標距離、濺射壓力、功率、電壓等相關參數在內的所有參數提供精確的數字控制。腔室還配備了高性能渦輪分子泵，可用於減少沈積時間，達到更高的薄膜質量。濺射模型還采用原位清洗工藝，可控制沈積速率和薄膜質量。設備配有自動基板定心泵站，允許目標到基板距離非常低，用於精確和可重復的濺射。MRC 603旨在為研究和工業提供各種材料的可靠濺射。它的高精度、重復性和靈活性使其適合於多種應用，從薄膜塗層，到光學和生物醫學器件，再到超導體、光學材料的沈積等等。