二手 MRC 603 #9160654 待售

MRC 603是一種直流磁控管濺射設備，設計用於將薄膜沈積在基板上，用於一系列應用。該系統采用直流磁控管、電源、工藝室和真空單元的組合運行。磁控管提供濺射過程所需的電子和離子，電源調節磁控管的輸出。加工室通常是一個小的圓柱形室，基板支架安裝在中心。該工藝室有一個用於泵降和氣體控制機的端口，以及另一個用於磁控管的端口。真空工具有助於保持濺射過程所需的壓力。603資產是一種特別通用的濺射模型,因為它具有各種射頻、直流、Ar/O2和反應性濺射配置。在射頻濺射沈積中，磁控管與高頻電源耦合，在磁控管和基板電極之間產生高頻場。該場導致濺射氣體電離，導致濺射。直流濺射沈積涉及直流電源和直流磁控管，在磁控管和基板之間產生直流磁場。直流場在基板表面產生負偏置電壓，提高濺射電離能。Ar/O2濺射沈積利用由氣體控制設備監測和調節的富氧環境。氧氣與氙氣結合生成Ar+離子，導致目標物質濺射。反應性濺射沈積結合了直流濺射沈積和反應性氣體，如氮或碳。通過引入適當的氣體，可以沈積反應材料的薄膜，如氮化物或碳化物薄膜。MRC 603是一種堅固可靠的濺射系統，旨在滿足各種薄膜沈積需求。其多種多樣的配置選項使其成為各種應用程序的絕佳選擇。該裝置在高功率水平下運行，磁場由真空饋流密封和封閉。電源控制允許用戶修改各種濺射配置的電源級別,從而提供更高的控制和過程準確性。603機是在各種基材材料上制作高質量薄膜的絕佳選擇。