二手 MRC 603 #9161023 待售

MRC 603是用於薄膜沈積的最先進的濺射設備。該系統利用磁增強反應性濺射沈積（MARS）沈積具有優異均勻性和優越電學和光學性能的薄膜。603配有3-D定位基板支架，可精確定位多達5種基板。這種先進的基板支架結合軸向磁控管在每個濺射過程中提供均勻的薄膜生長。濺射源還具有計算機控制的功率水平，可針對各種工藝條件進行調節，如沈積速率、成分或應力。MRC 603具有利用脈沖質量流控制器和多條氣體管線進行氣體混合的閉環氣體流動單元。這可以精確控制氣體成分和純度，也可以快速循環不同的工藝氣體。氣流機還配備了RTG（實時氣體監測）工具，在任何給定時間監測濺射室內的氣體成分。603還具有許多旨在保護用戶和資產的安全功能。這包括一個緊急停止按鈕、一個超壓指示器、一個防日冕模型以及內置的氣體泄漏檢測和清除系統。此外，MRC 603有一個廣角觀光口，可以讓使用者從濺射室外觀察過程。這為監測沈積過程提供了一種方便的方法，而不必打開腔室的門。603還配備了遙控用戶界面，使用戶能夠從遠程位置設置和運行設備。這大大改善了用戶體驗，使用戶能夠隨時跟蹤沈積過程。總體而言,MRC 603是一種先進的濺射系統,它具有廣泛的沈積性能,具有出色的均勻性和優異的電學和光學性能的薄膜。603具有眾多的安全特性、精確的氣體混合以及遙控用戶界面，是廣泛薄膜沈積應用的理想濺射裝置。