二手 MRC 603 #9194036 待售

製造商
MRC
模型
603
ID: 9194036
Sputtering system.
MRC 603是由Jelight Company Inc設計的先進濺射設備。該系統旨在滿足薄膜沈積的廣泛研究需求。它的運作方式是產生輝光的離子放電,轟擊目標材料,通過將目標材料上的顆粒擊落來形成薄膜。目標材料可能包括磁性材料、電介質、半導體和高導電材料。該裝置包含兩個定制設計的高真空室,堅固耐用,可長期使用,正常運行。采用射頻驅動的等離子體源來提高離子轟炸率。最終結果是均勻、優質的薄膜。機器包含一個集成的冷卻工具,運行多個進程,並且能夠進行預編程操作。603自動薄膜沈積資產集成了用戶友好、易於使用的軟件界面。該界面具有用於自動流程優化的直觀操作程序和用於存儲快速配置特定流程和工具所需配方的數據庫。配方配置簡單,可以分幾步完成。模型可以在兩種模式下操作;手動操作或全自動操作。在手動模式下,操作使用圖形界面菜單進行指導,該菜單允許進行過程調整以獲得所需的產品。在全自動模式下,流程按順序優化,為設備在後續運行中的最佳沈積做好準備。系統可以配置許多工具以實現進一步的自動化。使用直線電動機級和水平樣板支架可以實現自動化和驗證。此外,MRC 603可以連接到外部氣體管線,以控制和恒定氣體流入腔室。廢氣顆粒可通過原位顆粒監測系統進行監測。綜上所述,603濺射裝置是為薄膜沈積需要而設計的先進工具。它提供了強大的工程設計、堅固的構造、直觀的用戶界面、自動化的操作以及各種工具,可增強靈活性和優化。
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