二手 MRC 603 #9269412 待售

MRC 603是為薄膜沈積而設計的濺射設備。它是一個高真空、高功率和多用途的平臺，用於在直流和射頻模式下濺射薄膜。603具有單個電子槍和兩個強大的磁控管濺射源，能夠產生平面和圓柱形目標。該系統采用渦輪泵浦高真空室，底壓優於5x10-5 Torr，實現超高真空條件。支持手動和自動操作的用戶友好控制器為MRC 603提供了直觀、輕松的操作和控制。該裝置包括溫度、壓力、沈積速率和薄膜厚度等工藝參數。它還具有調頻、脈沖濺射和可選過程等其他高級功能。603有兩個平面磁控管單元,用戶可以在不同溫度下控制四個平面磁控管濺射目標。這些裝置的特點是，當達到所需的薄膜厚度時，可以停止濺射過程。濃縮離子束（CIB）源提供了精確、精確地濺射材料的能力。它具有兩個可調節的工作距離與手動或自動模式控制。CIB能夠生產高質量的合金和其他材料薄膜。MRC 603上的多室操作支持允許最多三個室相互連接和串聯操作，或者在每個室中進行單獨的操作。對於需要幾步沈積的用戶來說，這是一個有利的功能。603為磁控管濺射源的外部匹配網絡控制提供了可調射頻電源。直流電源允許用戶為電子槍設置電壓，並保護機器免受過壓或過流情況的影響。MRC 603是各種應用中經濟高效、高質量薄膜沈積的絕佳選擇。它的多功能性和用戶友好的界面使得它適合研究以及工業薄膜加工。